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场致发射显示领域专利分析
近年来，随着科技的快速发展和人们对高质量显示的需求，场致发射（FE）显示技术逐渐成为一种重要的显示技术。FE显示技术以其高亮度、高分辨率、低功耗、高对比度等优点而备受瞩目。本文将对场致发射显示技术领域中的专利进行分析，以探讨该技术的发展趋势和行业前景。
一、场致发射技术简介
场致发射技术是一种使固体表面发射电子的技术。它通常采用宽禁带的材料作为阴极材料，如钨、铪、锗等，并在其表面涂覆一层半导体层。当半导体层施加高电场时，电子可以被场效应加速出来，形成电子束，从而实现场致发射现象。场致发射技术在显示领域得到广泛应用，特别是在液晶显示器（LCD）和场发射显示器（FED）等大屏幕显示器中广泛应用。
二、场致发射显示技术领域专利分析
1.专利申请人分布情况
针对场致发射显示技术领域的专利申请人进行统计分析，可以得到以下结论：
（1）美国、日本和韩国是场致发射显示技术领域的主要专利申请国家和地区；
（2）早期，三星、LG等韩国企业占据了该领域的主导地位，如2009年至2011年间，三星申请的场致发射显示技术专利数量达到了全球排名第一；
（3）但近年来，中国的企业也逐渐加入到该领域，申请专利的数量逐渐增多。以BOE技术为例，其在2015年到2017年间申请的技术专利数量远高于三星。
2.技术领域热点
场致发射显示技术领域的专利研究主要集中在以下三个热点方向：
（1）束流分配技术：场致发射技术中使用的是电子束，如何实现精确的电子束分配是当前研究的重点。专利文献中对于具体的分配方法进行了详细描述，如在发射板上布置微孔阵列，使用电子束束线根据需要控制在微孔上的位置。
（2）阴极材料技术：阴极材料的选择和制备对场致发射技术的性能影响很大。针对目前使用的阴极材料，研究人员尝试通过改变其结构和组成来提高性能。例如，将半导体材料与金属材料复合制备，可以提高电子束发射效率。
（3）场致发射的耐久性问题：目前，场致发射技术的发射电流密度较小，导致其在长时间使用过程中容易出现电场强度降低的问题。为此，研究人员利用特定的衬底结构来提高释放电子，如在衬底附近构建具有凸起形态等结构，可以形成场致发射梯度，有利于提高释放电子。
3.发展前景
场致发射技术在大屏幕显示器中的应用前景广阔。随着技术的不断进步，场致发射技术未来将具有更高的电子发射效率、更高的电子发射密度、更高的分辨率、更低的功耗和更长的使用寿命等优点。同时，随着新型材料和新型制备工艺的不断涌现，场致发射显示技术也将得到进一步的推广和应用。
总结：
本文对场致发射显示技术领域的专利进行了分析，可以看出该技术在半导体材料、显示器面板制造、电子束分配和耐久性方面进行了不断的技术创新和探索。目前，场致发射技术在显示器领域的优势和潜力逐渐显现，未来该技术有望在显示技术领域成为一种重要的方向，并引领大屏幕显示器的新一轮技术革新。