定位装置、光刻设备、补偿平衡质量块转矩的方法和器件制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111566565A(43)申请公布日2020.08.21(21)申请号201880085060.4S·C·Q·利布雷尔M范(22)申请日2018.11.29·杜伊霍温M·W·J·E·威吉克曼斯(30)优先权数据18150247.72018.01.04EP(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021(85)PCT国际申请进入国家阶段日代理人王璐璐2020.07.01(51)Int.Cl.(86)PCT国际申请的申请数据G03F7/20(2006.01)PCT/EP2018/0829832018.11.29H01L21/68(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据WO2019/134776EN2019.07.11(71)申请人ASML荷兰有限公司地址荷兰维德霍温(72)发明人W·F·J·西蒙斯D·布拉卡玛H·巴特勒H·H·M·考克西R·W·A·H·理纳尔斯权利要求书3页说明书10页附图9页(54)发明名称定位装置、光刻设备、补偿平衡质量块转矩的方法和器件制造方法(57)摘要本发明涉及一种定位系统，包括：第一致动器，在可移动体上施加致动力，所述第一致动器耦接至平衡质量块，所述平衡质量块被配置为吸收所述致动力所产生的反作用力，所述致动力提供所述可移动体的加速度，所述反作用力提供所述平衡质量块的加速度，其中，由所述可移动体的加速度产生的力与由所述平衡质量块的加速度产生的力一起产生平衡质量块转矩；平衡质量块支撑件，将所述平衡质量块支撑到框架上，所述平衡质量块支撑件在支撑位置处接合所述框架；和转矩补偿器；其中所述转矩补偿器施加补偿力以补偿所述平衡质量块转矩，和其中所述转矩补偿器在所述支撑位置处将所述补偿力施加到所述框架上。CN111566565ACN111566565A权利要求书1/3页1.一种定位系统，包括：第一致动器，被配置为在可移动体上施加致动力，所述第一致动器耦接至平衡质量块，所述平衡质量块被配置为吸收由所述第一致动器生成的所述致动力所产生的反作用力，所述致动力提供所述可移动体的加速度，所述反作用力提供所述平衡质量块在相反方向上的加速度，其中，由所述可移动体的加速度产生的力与由所述平衡质量块的加速度产生的力一起产生平衡质量块转矩；平衡质量块支撑件，被配置为将所述平衡质量块支撑到框架上，所述平衡质量块支撑件在支撑位置处接合所述框架；和转矩补偿器；其中所述转矩补偿器被配置为施加补偿力以补偿所述平衡质量块转矩，和其中所述转矩补偿器被配置为在所述支撑位置处将所述补偿力施加到所述框架上。2.根据权利要求1所述的定位系统，其中所述平衡质量块支撑件包括第一平衡质量块支撑装置和第二平衡质量块支撑装置，所述第一平衡质量块支撑装置和所述第二平衡质量块支撑装置布置在所述平衡质量块的相反侧，其中所述第一平衡质量块支撑装置在第一支撑位置处接合所述框架，并且其中所述第二平衡质量块支撑装置在第二支撑位置处接合所述框架，并且其中所述补偿器包括第一补偿器致动器和第二补偿器致动器，所述第一补偿器致动器被配置为在所述第一支撑位置处将第一补偿力施加到所述框架上，所述第二补偿器致动器被配置为在所述第二支撑位置处将第二补偿力施加到所述框架上，并且其中所述第一补偿器致动器和所述第二补偿器致动器被配置为协作以在第一旋转方向上补偿所述平衡质量块转矩。3.根据权利要求2所述的定位系统，其中所述平衡质量块支撑件还包括第三平衡质量块支撑装置和第四平衡质量块支撑装置，所述第三平衡质量块支撑装置和所述第四平衡质量块支撑装置布置在所述平衡质量块的相反侧，其中所述第三平衡质量块支撑装置在第三支撑位置处接合所述框架，并且其中所述第四平衡质量块支撑装置在第四支撑位置处接合所述框架，并且其中所述补偿器包括第三补偿器致动器和第四补偿器致动器，所述第三补偿器致动器被配置为在所述第三支撑位置处将第三补偿力施加到所述框架上，所述第四补偿器致动器被配置为在所述第四支撑位置处将第四补偿力施加到所述框架上，并且其中所述第三补偿器致动器和所述第四补偿器致动器被配置为协作以在第二旋转方向上补偿所述平衡质量块转矩。4.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统，其中所述转矩补偿器包括适于移动可移动补偿器质量块的线性马达。5.根据权利要求4所述的定位系统，其中所述转矩补偿器还包括质量块位置检测器，所述质量块位置检测器被配置为确定所述转矩补偿器的所述可移动补偿器质量块的位置。6.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统，2CN111566565A权利要求书2/3页其中所述转矩补偿器还包括控制器，所述控制器被配置为生成或接收补偿器控制信号并基于所述补偿器控制信号产生补偿力，所述补偿器控制信号基于所述可移动体的相对于所述框架的位置和