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第三章场效应管及其放大电路第三章场效应管及其放大电路一.场效应管的分类1.基本结构 图3.1是N沟道增强型绝缘栅场效应管的结构示意图。利用栅源电压uGS的大小,来改变半导体表面感生电荷的多少,从而控制漏极电流iD的大小。 分析:主要讨论uGS对iD的控制作用。 (1)当uGS=0时(见图3.2a),不论所加电压uDS的极性如何,其中总有一个PN结是反向偏置的,反向电阻很高,则漏极电流iD≈0。 (2)当栅源极之间加正向电压uGS(见图3.2b),(3)当栅极与源极之间加正向电压uGS≥UT时(见图3.2c),被吸到表面层中的自由电子较多,填补空穴后还有剩余,在表面层中形成一个N型层,通常称为反型层;它就是沟通源区和漏区的N型导电沟道。形成导电沟道后,在漏极电源uDS的作用下,将产生漏极电流iD,MOS管即导通。场效应管是利用场效应原理工作的。(4)形成反型层的导电沟道后,uGS正值愈高,导电沟道愈宽,即 改变uGS→改变沟道宽度→改变iD uGS↑↓→沟道宽度↑↓→iD↑↓ 综述:当0<uGS<UT时,漏、源极间沟道尚未联通,iD≈0;当uGS≥UT时,随uGS变化iD随之变化。达到uGS对iD的控制,故称MOS管为电压控制元件。大家学习辛苦了,还是要坚持3.特性曲线输出特性曲线见图3.3(b)(1)开启电压UT 表述:在一定的漏源电压UDS作用下,使管子由截止变为导通的临界栅源电压uGS,称为开启电压UT。 表达式:(3)饱和漏极电流IDSS 表述:在一定的漏源电压uDS(通常为10V)作用下,当uGS=0时的漏极电流,称为饱和漏极电流IDSS。 表达式:1.基本结构 图3.5是N沟道耗尽型绝缘栅场效应管的结构示意图。制造时在二氧化硅绝缘层中渗入大量的正离子,在它的作用下,即使uGS=0时,在两个N型区之间形成原始N型导电沟道。2.工作原理 1)在uDS为常数的条件下,当uGS=0时,漏源极间已导通,iD≠0; 2)在uDS为常数,uGS>0时,沟道变宽,iD↑; 3)在uDS为常数,uGS<0时,沟道变窄,iD↓; 4)当uGS达到一定负值时,沟道被夹断,iD≈0;MOS管截止,UGS值称为夹断电压。3.特性曲线如图3.6所示(1)输入端: 由于场效应管是利用场效应原理工作的,不向信号源取用电流,故输入端呈开路状态。 (2)输出端:由伏安特性可知图3.4FET的微变等效电路及高频模型3.2场效应管放大电路二.静态分析由图3.9得其分压式场效应管放大电路的交流通路和微变等效电路,如图3.10和图3.111.放大电路的放大倍数

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