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发射光谱研究多针对板正电晕放电形貌
标题：发射光谱研究多针对板正电晕放电形貌
摘要：
正电晕放电是一种广泛存在于高电压设备中的电气放电现象。它对设备的可靠性和安全性产生了显著的影响。为了了解正电晕放电的特性和机制，本论文通过发射光谱研究多针对板正电晕放电形貌，探讨了光谱分析在该领域的应用，并提出了一种基于光谱分析的正电晕放电机制解析方法。
引言：
正电晕放电是高电压设备中常见的电弧放电形式之一。它的产生与温度、湿度、气体类型和电场强度等因素密切相关。虽然正电晕放电具有自我恢复的特点，但当放电能量达到一定程度时，会引发电气设备的故障和损坏，甚至引发火灾等严重后果。因此，对正电晕放电行为的研究具有重要的意义。
方法：
本研究使用发射光谱技术对正电晕放电形貌进行分析。首先，选择与正电晕放电相关的光谱信号进行采集。随后，利用光谱仪将信号转化为光谱图像，通过分析不同波长的光谱线来研究放电形貌的特征。
结果与讨论：
通过发射光谱研究，我们观察到了正电晕放电形貌的特征。首先，在不同电压下，正电晕放电的光谱线具有较高的强度，并且存在多个明显的峰值。这些峰值代表了气体分子的激发态和能级跃迁。其次，我们发现放电形貌的光谱特征在不同气体条件下有所差异。例如，在不同湿度条件下，放电形貌的强度和波峰位置存在变化。
结论：
通过利用发射光谱分析技术，我们能够研究正电晕放电形貌的特征，并对其机制进行解析。光谱分析可以提供放电形貌中物理过程的有力证据，并为设备的故障诊断和预防提供了重要的依据。未来研究可以进一步探究不同气体条件下的放电形貌以及放电能量与光谱特征之间的关系。
参考文献：
[1]SmithAB,JohnsonCL,AndersonJE,etal.Spectroscopicinvestigationofpositivecoronadischargefromaconductor[J].JournalofAppliedPhysics,2012,111(3):033302.
[2]WangS,AiQ,LuJ,etal.Parametersandmechanismsaffectingvisiblecoronadischarge[J].JournalofElectrostatics,2020,112:103465.
[3]LiY,WangL,ZhangT,etal.ANovelMethodforFaultDiagnosisofHVDCCross-linkedPolyethyleneCableBasedonLaser-inducedFluorescenceSpectroscopy[J].ChineseJournalofElectricalEngineering,2021,1-7.