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制造光学微透镜阵列的方法.pdf 立即下载
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制造光学微透镜阵列的方法.pdf

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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110520284A(43)申请公布日2019.11.29(21)申请号201880025238.6(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司1(22)申请日2018.02.261021代理人罗松梅(30)优先权数据102017203180.82017.02.27DE(51)Int.Cl.B29D11/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日G02B3/00(2006.01)2019.10.15(86)PCT国际申请的申请数据PCT/EP2018/0546092018.02.26(87)PCT国际申请的公布数据WO2018/154090DE2018.08.30(71)申请人弗劳恩霍夫应用研究促进协会地址德国慕尼黑(72)发明人奥利弗·帕布斯特埃里克·贝克特彼得·丹贝里权利要求书2页说明书9页附图19页(54)发明名称制造光学微透镜阵列的方法(57)摘要本发明涉及光学微透镜阵列(20、20'、20”、20”')和制造光学微透镜阵列(20、20'、20”、20”')的方法,其中,除此之外,该方法包括:提供具有第一面(11)和相对的第二面(12)的基板(10)。该方法还包括:至少部分地将光刻胶(13)施加在基板(10)的第一面(11),以及将光刻胶(13)结构化,使得结构化光刻胶(13a-13e)保留在基板(10)的第一面(11)上的以后将各自布置一个光学微透镜(16a-16e)的预定位置(15a-15e)处。另外,该方法包括:将疏水涂层(14)施加到所述基板(10)的第一面(11),然后从所述基板(10)的第一面(11)去除包括位于其上的疏水涂层(14)的结构化光刻胶(13a-13e)。此外,根据本发明,在基板(10)的第一面(11)的没有结构化光刻胶(13a-13e)的位置上各自布置一个微透镜(16a-16e)。CN110520284ACN110520284A权利要求书1/2页1.一种制造光学微透镜阵列(20、20'、20”、20”')的方法,其中,所述方法包括:提供具有第一面(11)和相对的第二面(12)的基板(10),至少部分地将光刻胶(13)施加到所述基板(10)的第一面(11),将所述光刻胶(13)结构化,使得结构化光刻胶(13a-13e)保留在所述基板(10)的第一面(11)上的以后将各自布置一个光学微透镜(16a-16e)的预定位置(15a-15e)处,将疏水涂层(14)施加到所述基板(10)的第一面(11),然后从所述基板(10)的第一面(11)去除包括位于其上的疏水涂层(14)的结构化光刻胶(13a-13e),以及在所述基板(10)的第一面(11)的没有所述结构化光刻胶(13a-13e)的位置上各自布置一个微透镜(16a-16e)。2.根据权利要求1所述的方法,还包括:至少部分地将光刻胶(13')施加到所述基板(10)的第二面(12),将所述光刻胶(13a'-13e')结构化,使得所述结构化光刻胶(13a'-13e')保留在所述基板(10)的第二面(12)上的以后将各自布置一个微透镜(16a'-16e')的预定位置(15a'-15e')处,将疏水涂层(14)施加到所述基板(10)的第二面(12),然后从所述基板(10)的第二面(12)去除包括位于其上的疏水涂层(14)的结构化光刻胶(13a'-13e'),以及在所述基板(10)的第二面(12)的没有所述结构化光刻胶(13a'-13e')的位置上各自布置一个微透镜(16a'-16e')。3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,在施加所述光刻胶(13)之前,将金属层(41、41')布置在所述基板(10)的第一面(11)或第二面(12)上,并且将所述金属层(41、41')选择性地结构化,以及在所述金属层(41、41')上布置半透明材料的另一层(42、42'),其中,然后将所述光刻胶(13)施加到该半透明材料的另一层(42、42')。4.根据权利要求3所述的方法,其中,将所述金属层(41、41')结构化包括部分地和局部地去除所述金属层(41、41'),使得在所述金属层(41,41')中提供可以被背光照射的结构(43)。5.根据权利要求3或4所述的方法,其中,将所述金属层(41、41')布置在所述基板(10)上,使得所述金属层(41、41')的结构化部分(43a-43f)位于所述基板(10)的第一面(11)或第二面(12)上的以后将各自布置所述一个微透镜(16a-16f)的预定位置(15a-15f)处。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,在将所述光刻胶(13、13')施加在所述基板(10)的第一面(11)和/或第二面(12)上之前,设置了三维突起(71a-71f)
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