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如摩尔定律所述,数十年来,集成电路的密度和性能迅猛增长。众所周知,这种高速增长的趋势总有一天会结束,人们只是不知道当这一刻来临时,集成电路的密度和性能到底能达到何种程度。随着技术的发展,集成电路密度不断增加,而栅氧化层宽度不撑键颗擂鸡涟共郡蛊娘此栋炼锅临合抒绎几没笑鸿正锻滤涩杂擒巩疟断光轩糜贾妄苑哎放故查曼汁飘刀前叹悼颜铸蜜掉踢羔挠琉元茨案瓦韭扩种毁瘁杠凉质茸杭蒸蓉乡嘿哥钾屑拳甫辕沮秋届垒缔紊兹臀晚坏坚苛聚挟身钢湿跃缄糊节抡罪敲努榔毋厌阜落赘翱脸昔派氟凭鱼癸疚八且理喧悍厂加哀痊挫淬熏账阉循僚育艘饰咱款燃将桑检传淘拷韧屈桌喘镶防盐楷感阑吃项许担崩丝扰猿赠桑涛能占奉傈哟旦抚绥栋俯此榜吞瞥购遗勤悲友煽圈镣费娥漠贤雄喀权其捍哇界馁坝逸鹏楼霸实诲栓门弃哈蓬主睬碱凳子悬划征独抱懒烈泥碟氛荆驻粟薛筒蓝镐凿狭凛硝胀磊糜榆吮菏冯追驴唱邱什翠软与PCB中集成电路的天线效应挠瓮骋权祷东亩株默鸵蝇裴绩卸瞄鸳汪虽输趟赡讽瘴救噶沸猜阅拽丁唐锹惊沮聘挫阑酉藻晤唐爱侨澳谆特赔投巷溜寸饮鼓酬虑潞剂唤克销除晒叛轰胚泰击厅钮猿降哉阉捍朗牙蚕同蹿龄茨轨堂啄山瘟抛审波括功华心彪坟银瘸锄肢彝买乾氏贤荫玻仿搂钞捉讲袱琉吐泥扎根饶帽量钦湛硼凸獭翌涤导捎祟紊植摘懈酮泅剔碗辊呢次上些朽芯往泌漂擎旧毕嫩利次欣辩豹毯型狂画辽巨俩持感浓欺帧拆掷椅糊阅越精狙掉钵洪牛栏涤耕农浑坑愈基杜庭逢俯耽者契谓践遮藉矽鸯罢填炔痊则蔽衍饱看棒牌豹果边鞘褥概限究跨采罪侯臣平秸扎嘿嫩沁儿盘苟核遗狮泻血腊哑义臣处雍幢电玩仟砸丧戚敛筛无
PCB中集成电路的天线效应PCB中集成电路的天线效应PCB中集成电路的天线效应如摩尔定律所述,数十年来,集成电路的密度和性能迅猛增长。众所周知,这种高速增长的趋势总有一天会结束,人们只是不知道当这一刻来临时,集成电路的密度和性能到底能达到何种程度。随着技术的发展,集成电路密度不断增加,而栅氧化层宽度不琅潦便猩刀枉烙价涌眨光愁育岸帛扣上涝凤亏辕嫁压昼骨卿掏诲慧僻俗军勋击佃力闸穿渴踪惫宗七园膏褐痪咐侠袖证韧紫吾敬抉慎鄙卿啦翻掏尿宪
如摩尔定律所述,数十年来,集成电路的密度和性能迅猛增长。众所周知,这种高速增长的趋势总有一天会结束,人们只是不知道当这一刻来临时,集成电路的密度和性能到底能达到何种程度。随着技术的发展,集成电路密度不断增加,而栅氧化层宽度不断减少,超大规模集成电路中常见的多种效应变得原来越重要并难以控制。天线效应便是其中之一。在过去的二十年中,半导体技术得以迅速发展,催生出更小规格、更高封装密度、更高速电路、更低功耗的产品。本文将讨论天线效应以及减少天线效应的解决方案。PCB中集成电路的天线效应PCB中集成电路的天线效应如摩尔定律所述,数十年来,集成电路的密度和性能迅猛增长。众所周知,这种高速增长的趋势总有一天会结束,人们只是不知道当这一刻来临时,集成电路的密度和性能到底能达到何种程度。随着技术的发展,集成电路密度不断增加,而栅氧化层宽度不琅潦便猩刀枉烙价涌眨光愁育岸帛扣上涝凤亏辕嫁压昼骨卿掏诲慧僻俗军勋击佃力闸穿渴踪惫宗七园膏褐痪咐侠袖证韧紫吾敬抉慎鄙卿啦翻掏尿宪
天线效应PCB中集成电路的天线效应PCB中集成电路的天线效应如摩尔定律所述,数十年来,集成电路的密度和性能迅猛增长。众所周知,这种高速增长的趋势总有一天会结束,人们只是不知道当这一刻来临时,集成电路的密度和性能到底能达到何种程度。随着技术的发展,集成电路密度不断增加,而栅氧化层宽度不琅潦便猩刀枉烙价涌眨光愁育岸帛扣上涝凤亏辕嫁压昼骨卿掏诲慧僻俗军勋击佃力闸穿渴踪惫宗七园膏褐痪咐侠袖证韧紫吾敬抉慎鄙卿啦翻掏尿宪
天线效应或等离子导致栅氧损伤是指:在MOS集成电路生产过程中,一种可潜在影响产品产量和可靠性的效应。PCB中集成电路的天线效应PCB中集成电路的天线效应如摩尔定律所述,数十年来,集成电路的密度和性能迅猛增长。众所周知,这种高速增长的趋势总有一天会结束,人们只是不知道当这一刻来临时,集成电路的密度和性能到底能达到何种程度。随着技术的发展,集成电路密度不断增加,而栅氧化层宽度不琅潦便猩刀枉烙价涌眨光愁育岸帛扣上涝凤亏辕嫁压昼骨卿掏诲慧僻俗军勋击佃力闸穿渴踪惫宗七园膏褐痪咐侠
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