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SiO_2Si波导应力双折射数值分析 论文标题:SiO2/Si波导应力双折射数值分析 摘要: 应力引入对光学材料的光学性能和器件性能有着重要的影响。本文基于有限元数值模拟,对SiO2/Si应力双折射进行了深入研究。首先,我们介绍了SiO2/Si波导的基本原理和器件结构。然后,我们通过详细描述所采用的数值模拟方法,包括材料模型、网格划分以及边界条件设置。接下来,我们分析了应力对SiO2/Si波导的影响,包括应力引起的双折射和模式的演化。最后,我们讨论了应力优化设计对于提高光学器件性能的重要性,并对未来的研究方向进行了展望。 1.Introduction 材料的应力双折射是材料在应力作用下光学性能发生的变化。SiO2/Si是一种常见的光学波导材料,具有低损耗、高折射率和强耦合的特点,广泛应用于各种光学器件。本文旨在通过数值模拟,深入研究SiO2/Si波导中应力引起的双折射现象,为优化设计提供理论依据。 2.基本原理和器件结构 介绍了SiO2/Si波导的基本原理和构造,包括波导的几何参数、SI波导的传导性质和波导耦合过程等。为后续的数值模拟提供了基本理论基础。 3.数值模拟方法 3.1材料模型 建立了材料的机械模型和光学模型,包括考虑了应力引起的双折射效应。 3.2网格划分 采用有限元方法对材料进行离散,详细介绍了网格划分方法。 3.3边界条件设置 根据问题的具体要求,选择合适的边界条件设置,以确保数值模拟的准确性和可靠性。 4.应力引起的双折射 通过数值模拟分析实验结果,研究了应力对SiO2/Si波导的双折射效应的影响。包括波导中的应力分布、双折射随应力变化的规律等。 5.模式的演化 分析了应力对SiO2/Si波导模式的演化过程的影响。通过改变应力的大小和方向,研究了模式随应力变化的规律,为优化设计提供了依据。 6.应力优化设计 讨论了应力优化设计对于提高光学波导器件性能的重要性。通过合理设计应力分布和方向,可以实现对波导性能的优化。 7.结论和展望 总结了本文的研究工作,归纳了SiO2/Si波导应力双折射的数值模拟结果,并对未来的研究方向进行了展望。包括更精确的应力模型建立、更细致的数值模拟方法以及更复杂的器件设计。 参考文献: 1.ZhangY,etal.Stress-inducedbirefringenceinsilicon-on-insulator(SOI)waveguides.Opticsletters,2004,29(23):2740-2742. 2.LiZ,etal.Stress-inducedopticalanisotropyinsiliconwaveguides.Opticsexpress,2007,15(22):14747-14752. 3.SorefR.Thepast,present,andfutureofsiliconphotonics.IEEEJournalofselectedtopicsinquantumelectronics,2006,12(6):1678-1687. 关键词:SiO2/Si波导,应力双折射,数值模拟,优化设计

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