2020105842622一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层的方法.pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN111644748B
(45)授权公告日2022.06.10
(21)申请号202010584262.2B23K26/082(2014.01)
(22)申请日2020.06.24B23K26/70(2014.01)
(65)同一申请的已公布的文献号审查员彭绍
申请公布号CN111644748A
(43)申请公布日2020.09.11
(73)专利权人中国船舶重工集团公司第七二五
研究所
地址471000河南省洛阳市洛龙区滨河南
路169号
(72)发明人石绪忠周洋王腾达
(74)专利代理机构洛阳公信知识产权事务所
(普通合伙)41120
专利代理师逯雪峰
(51)Int.Cl.
B23K26/36(2014.01)权利要求书1页说明书3页
(54)发明名称
一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层
的方法
(57)摘要
一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层
的方法，采用激光波长为1.064的纳米激光
器对镁合金微弧氧化膜层进行激光去除，激光输
出功率为6～18W，激光频率为25～100KHz，扫描
方式为对微弧氧化膜层重复进行多次激光光束
扫描，相邻两次的扫描方向相互垂直，扫描线间
距为0.05～0.09mm，扫描速度为510～2000mm/s。
本发明降低了激光输出功率，并对激光的扫描方
式、扫描线间距和扫描速度进行设置，既可以对
微弧氧化膜层进行充分去除，又可以避免对镁合
金表面造成烧蚀，保证激光去除后镁合金的表面
质量，膜层去除速度快且干净，膜层去除后镁合
金的表面粗糙度不超过3.2，满足镁合金微
弧氧化膜层去除的要求。
CN111644748B
CN111644748B权利要求书1/1页

1.一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于：采用激光波长为
1.064的纳米激光器对镁合金微弧氧化膜层进行激光去除，激光输出功率为6～18W，激
光频率为25～100KHz，扫描方式为对微弧氧化膜层重复进行多次激光光束扫描，相邻两次
的扫描方向相互垂直，扫描线间距为0.05～0.09mm，扫描速度为510～2000mm/s。
2.根据权利要求1所述的一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在
于：对镁合金微弧氧化膜层上受到激光光束扫描的区域进行电阻测量，当区域内任意两点
之间的电阻均为零时，镁合金微弧氧化膜层的去除完成，停止对该区域的激光扫描。
3.根据权利要求1所述的一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在
于：激光输出功率为18W，频率为50KHz，扫描线间距为0.05mm，扫描速度为1000mm/s。
4.根据权利要求1所述的一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在
于：激光输出功率为9W，频率为50KHz，扫描线间距为0.05mm，扫描速度为1500mm/s。
5.根据权利要求1所述的一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在
于：激光输出功率为6W，频率为30KHz，扫描线间距为0.05mm，扫描速度为510mm/s。
6.根据权利要求1所述的一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在
于：激光输出功率为18W，频率为100KHz，扫描线间距为0.09mm，扫描速度为2000mm/s。
7.根据权利要求1所述的一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在
于：激光输出功率为12W，频率为25KHz，扫描线间距为0.09mm，扫描速度为2000mm/s。

2
CN111644748B说明书1/3页

一种快速光洁地去除镁合金微弧氧化膜层的方法

技术领域
[0001]本发明涉及镁合金氧化膜层去除方法领域，尤其涉及一种快速光洁地去除镁合金
微弧氧化膜层的方法。

背景技术
[0002]镁具有低密度、高比强度、高比刚度、电磁屏蔽性能等优点，在军工、机械、电子、医
疗器械等领域具有广泛的应用前景。然而镁及其合金极易腐蚀，在特殊环境下（如海水、有
机/无机盐溶液、有机/无机酸碱溶液等），镁合金会与周围的介质发生化学或电化学反应。
[0003]为提高镁合金的耐腐蚀能力，业内常采用微弧氧化进行表面处理，在基体表面生
成高硬度、致密的陶瓷膜。然而，镁合金的微弧氧化膜层的主要成分为氧化镁或氧化镁的复
合氧化物，难以采用酸液或碱液去除，且酸碱液渗透至基体容易造成基体的过腐蚀。化学方
法除膜需要加热、成本高、能耗高、污染严重、工艺复杂、容易伤到镁合金内部。
[0004]激光清除因其非直接接触、无污染、易操控的优点，已开始应用于合金的表面处
理，尤其广泛适用于铝合金的表面处理，取得了良好的效果，但现有的激光清除技术对镁合
金的效果不佳，难以满足要求。如申请号为201310293821.4的现有技术中