发明授权-2015100061334-基板处理装置的控制装置、基板处理装置及显示控制装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN104766795B
(45)授权公告日2020.03.13
(21)申请号201510006133.4(51)Int.Cl.
(22)申请日2015.01.07H01L21/3065(2006.01)
(65)同一申请的已公布的文献号审查员周辉辉
申请公布号CN104766795A
(43)申请公布日2015.07.08
(30)优先权数据
2014-0010912014.01.07JP
2014-0194362014.02.04JP
2014-0194372014.02.04JP
(73)专利权人株式会社荏原制作所
地址日本东京都大田区羽田旭町11番1号
(72)发明人杉山光德
(74)专利代理机构上海市华诚律师事务所
31210
代理人梅高强刘煜权利要求书2页说明书19页附图21页
(54)发明名称
基板处理装置的控制装置、基板处理装置及
显示控制装置
(57)摘要
本发明提供一种基板处理装置的控制装置、
基板处理装置以及显示控制装置。该控制装置
(5)具有：按照功能地执行与CMP装置有关的处理
用的多个处理模块(界面系统APSW(510)、控制系
统APSW(520))；以及对多个处理模块所用的信息
进行存储的共有存储器(540)。多个处理模块包
含任务监视模块(530)，该任务监视模块对多个
处理模块是否产生异常进行监视。任务监视模块
(530)在多个处理模块中的某一个产生异常时，
使产生异常的处理模块再起动，使其它处理模块
的处理继续。采用本发明，可高效执行基板处理
装置的多个功能。
CN104766795B
CN104766795B权利要求书1/2页

1.一种基板处理装置的控制装置，其特征在于，具有：
多个处理模块，所述多个处理模块用于按照功能地执行与基板处理装置有关的处理；
以及
存储装置，该存储装置对所述多个处理模块所用的信息进行存储，
所述多个处理模块包含监视模块，该监视模块对所述多个处理模块是否产生异常进行
监视，
所述监视模块在所述多个处理模块的某一个处理模块产生异常时，使产生异常的处理
模块再起动，使其它处理模块的处理继续，
所述基板处理装置的控制装置还具有作为信息界面的显示装置，
所述多个处理模块包含：
界面系统模块，该界面系统模块用于执行通过所述显示装置进行的信息的输入输出处
理；以及
控制系统模块，该控制系统模块用于基于由所述界面系统模块输入的输入信息而执行
所述基板处理装置的动作处理、或所述输入信息向所述存储装置内的存储处理，
所述监视模块在所述界面系统模块及所述控制系统模块中的某一个产生异常时，使产
生异常的模块再起动，使其它模块的处理继续，
所述界面系统模块包含如下处理模块中的至少二个：
对与所述基板处理装置的基板处理有关的工艺进行编辑用的工艺编辑模块；对通过组
合所述工艺而作成的所述基板处理装置的作业进行编辑用的作业编辑模块；将所述基板处
理装置所包含的单元的测试或调整用的命令予以输入用的单元调整模块；以及对所述基板
处理装置所用的参数进行编辑用的参数编辑模块，
所述监视模块在所述工艺编辑模块、所述作业编辑模块、所述单元调整模块及所述参
数编辑模块中的至少二个中的某一个产生异常时，使产生异常的处理模块再起动，使其它
处理模块的处理继续。
2.如权利要求1所述的基板处理装置的控制装置，其特征在于，所述控制系统模块包含
如下处理模块中的至少二个：
将通过所述工艺编辑模块编辑的工艺存储到所述存储装置用的工艺管理模块；将通过
所述作业编辑模块编辑的作业存储到所述存储装置、并且基于所述作业而使所述基板处理
装置动作用的作业管理/控制模块；基于通过所述单元调整模块输入的命令而使所述基板
处理装置所包含的单元动作用的单元操作模块；以及将通过参数编辑模块编辑的参数存储
到所述存储装置用的参数管理模块，
所述监视模块在所述工艺管理模块、所述作业管理/控制模块、所述单元操作模块及所
述参数管理模块中的至少二个中的某一个产生异常时，使产生异常的处理模块再起动，使
其它处理模块的处理继续。
3.一种基板处理装置，其特征在于，具有：
权利要求1或2所述的控制装置；
对基板进行研磨处理用的研磨单元；
对所述基板进行清洗处理及干燥处理用的清洗单元；以及
将基板转移到所述研磨单元、并且接收由所述清洗单元进行清洗处理及干燥处理后的

2
CN104766795B权利要求书2/2页
基板的装载/卸载单元。

3
CN104766795B说明书1/19页

基板处理装置的控制装置、基板处理装置及显示控制装置

技术领域
[0001]本发明涉及一种基板处理装置的控制装置、基板处理装置及显示控制装置。

背景技术
[0002]近年来，使用