发明授权-2018110295820-成膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN109468609B
(45)授权公告日2021.08.27
(21)申请号201811029582.0(51)Int.Cl.
(22)申请日2018.09.05C23C14/56(2006.01)
C23C14/34(2006.01)
(65)同一申请的已公布的文献号
申请公布号CN109468609A(56)对比文件
JPS59157281A,1984.09.06
(43)申请公布日2019.03.15US5863170A,1999.01.26
(30)优先权数据CN105463386A,2016.04.06
2017-1725042017.09.07JPUS2016/0307782A1,2016.10.20
(73)专利权人芝浦机械电子装置株式会社审查员刘化然

地址日本神奈川县横浜市荣区笠间二丁目
5番1号（邮递区号:247-8610）
(72)发明人小野大祐神户优
(74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理
有限公司11205
代理人杨贝贝臧建明
权利要求书1页说明书12页附图13页
(54)发明名称
成膜装置
(57)摘要
本发明提供一种能够容易且正确地进行屏
蔽构件与工件的间隔的设定的成膜装置。本发明
具有：腔室(1)，能够使内部为真空，并在上部具
有能够开闭的盖体(1a)；旋转平台(3)，设于腔室
(1)内，并以圆周的轨迹对工件(W)进行旋转搬
运；成膜部(4a～4g)，通过溅射而使成膜材料堆
积于由旋转平台(3)搬运的工件(W)以进行成膜；
屏蔽构件(9)，在供工件(W)通过的一侧具有开口
(91)，形成供利用成膜部(4a～4g)进行成膜的成
膜室(S)；以及支撑部(P)，对屏蔽构件(9)进行支
撑，相对于腔室(1)为不动且独立于盖体(1a)。
CN109468609B
CN109468609B权利要求书1/1页

1.一种成膜装置，其特征在于，具有：
腔室，能够使内部为真空，并在上部具有能够开闭的盖体；
搬运部，设于所述腔室内，具有对工件进行保持的旋转平台与旋转轴，并以所述旋转轴
为中心在圆周的轨迹对所述工件进行旋转搬运；
成膜部，通过溅射而使成膜材料堆积于由所述搬运部搬运的所述工件以进行成膜；
屏蔽构件，在供所述工件通过的一侧具有开口，形成供利用所述成膜部进行成膜的成
膜室；以及
支撑部，对所述屏蔽构件进行支撑，相对于所述腔室为不动且独立于所述盖体，
所述支撑部具有：
外周支撑部，在所述旋转平台的旋转外周侧对所述屏蔽构件进行支撑；以及
内周支撑部，在所述旋转平台的旋转内周侧对所述屏蔽构件进行支撑，
所述内周支撑部为支撑所述旋转轴且相对于所述腔室为不动的支柱，
通过将所述屏蔽构件支撑在所述外周支撑部与所述内周支撑部之间，在所述屏蔽构件
的所述开口的下端与所述旋转平台之间形成有所述旋转平台上的所述工件能够通过的间
隔。
2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述旋转轴贯穿所述腔室的底部而竖

立设置在所述腔室的内部。
3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，在所述支撑部与所述屏蔽构件之
间设有第1防振材。
4.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，在所述屏蔽构件与所述盖体之间
设有第2防振材。
5.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，在所述屏蔽构件与所述盖体之间
设有散热构件。
6.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，所述屏蔽构件具有：
顶面部，安装于所述盖体；以及
侧面部，与所述顶面部分开而设置。
7.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，具有：调整构件，拆装自如地设于
所述屏蔽构件，对所述屏蔽构件与所述工件之间的间隔进行调整。
8.根据权利要求7所述的成膜装置，其特征在于，所述调整构件通过多个分割构件的组
合而构成。
9.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，具有：修正板，拆装自如地设于所
述屏蔽构件，对所形成的膜的膜厚分布进行调整。

2
CN109468609B说明书1/12页

成膜装置

技术领域
[0001]本发明涉及一种成膜装置。

背景技术
[0002]在半导体或显示器(display)或者光盘(opticaldisk)等各种产品的制造工序
中，有时要在例如晶片(wafer)或玻璃(glass)基板等工件(work)上形成光学膜等薄膜。薄
膜可通过对工件形成金属等的膜的成膜以及对所形成的膜反复进行蚀刻(etching)、氧化
或氮化等膜处理而制作。
[0003]成膜及膜处理可利用各种方法来进行，作为其一，有使用等离子体的方法。在成膜
时，向配置有靶材(target)的真空容器即腔室内导入惰性气体，并对靶材施加直流电压。使
等离子体化的惰性气体