发明授权-201811120882X-基板处理装置和基板处理方法.pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN109560018B
(45)授权公告日2022.10.18
(21)申请号201811120882.X(51)Int.Cl.
(22)申请日2018.09.26H01L21/67(2006.01)
H01L21/687(2006.01)
(65)同一申请的已公布的文献号
申请公布号CN109560018A(56)对比文件
JP2002166216A,2002.06.11
(43)申请公布日2019.04.02JP2011249848A,2011.12.08
(30)优先权数据TW201215458A,2012.04.16
2017-1853122017.09.26JPUS2007289528A1,2007.12.20
(73)专利权人芝浦机械电子装置股份有限公司CN104916570A,2015.09.16
地址日本神奈川县审查员陈子威

(72)发明人古矢正明山崎克弘森秀树
林航之介
(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限
公司11127
专利代理师李辉邓毅
权利要求书2页说明书13页附图11页
(54)发明名称
基板处理装置和基板处理方法
(57)摘要
本发明提供基板处理装置和基板处理方法，
能够按照每种处理液实现分离回收。基板处理装
置将多种处理液依次供给来处理基板，具有：保
持着基板(12)旋转的基板旋转构件；向通过基板
旋转构件旋转的基板供给处理液的喷嘴；设在基
板周围而接收从基板飞散的处理液的杯体(51)；
与杯体接收的处理液的种类对应地供来自杯体
的处理液流过的各种回收配管(55)；转动构件，
其使杯体水平转动而将杯体切换到与处理液的
种类相对应的回收配管所位于的方向；以及升降
构件，其使杯体沿上下方向升降而切换为如下的
高度位置：通过转动构件使杯体和与处理液的种
类对应的回收配管相连通的第1高度位置；和使
杯体接收的处理液流到废液路径(61)中的第2高
度位置。
CN109560018B
CN109560018B权利要求书1/2页

1.一种基板处理装置，其将多种处理液依次供给到基板上来处理基板，
其特征在于，
所述基板处理装置具有：
基板旋转构件，其保持着所述基板进行旋转；
处理液供给构件，其对借助所述基板旋转构件旋转的所述基板供给处理液；
液体承接部，其设置于所述基板的周围，接收从所述基板飞散的所述处理液；
杯体，其设置于所述基板的周围，且接收由所述液体承接部接收到的所述处理液；
各种回收通道，它们配置在所述杯体的周向上，与所述杯体接收的处理液的种类对应
地供来自所述杯体的所述处理液流过；
转动构件，其使所述杯体以所述基板旋转构件的旋转轴为中心而水平转动，且将所述
杯体切换到与所述处理液的种类相对应的回收通道所位于的方向；
升降构件，其使所述杯体沿上下方向升降而切换为第1高度位置和第2高度位置，其中，
所述第1高度位置是使所述杯体和与所述处理液的种类对应的回收通道相连通的高度位
置，所述第2高度位置是所述杯体不与所述回收通道连通，且使所述杯体接收的所述处理液
流到废液通道中的高度位置；以及
控制部，在对从所述处理液供给构件供给的处理液进行切换时，在所述液体承接部接
收所述处理液的状态下，所述控制部控制所述升降构件以使所述杯体定位在所述第2高度
位置，并且控制所述转动构件以使所述杯体在与所述处理液的种类相对应的回收通道所位
于的方向上水平转动。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述杯体是上部开口的环状的容器，在所述杯体的下部形成有流出孔部，所述流出孔
部用于使所述处理液流到所述回收通道或所述废液通道中。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述基板旋转构件的外周壁部、和配置在所述基板旋转构件的外周侧的液体承接部的
内周壁部以规定长度插入所述杯体的所述开口中。
4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述回收通道是具有配置在所述基板的周向侧的端部开口的多个回收配管。
5.根据权利要求1至3中的任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，
所述基板处理装置还具有各种排气通道，所述各种排气通道与所述处理液的种类对应
地使含有所述处理液的气体从所述杯体流到外部，
在通过所述转动构件将所述杯体切换到与所述处理液的种类相对应的所述回收通道
所位于的方向时，在所述杯体的外周面上形成的凹部形状的排气间隙和与所述处理液的种
类相对应的排气通道连通。
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述排气通道是具有配置在所述基板的周向侧的端部开口的多个排气配管。
7.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述废液通道是将所述处理液向外部废弃的废液配管，处理液从被所述升降构件配置
到第2高度